钌溅射靶材 (Ru)

钌靶(Ru

钌薄膜由于其独特的物理、化学和催化性能,被广泛用于电子、电气和催化领域,例如如垂直磁记录媒介中的中间层、大规模集成电路中的铜扩散势垒等。本公司以磁记录用钌靶为突破口,依托公司完善的贵金属回收提纯技术、材料制备加工以及贵金属贸易的经验,经过近年来的攻关研究,已经成为国内首家能够成功制备磁记录用钌靶的公司。制备的钌靶已经通过了世界知名磁记录公司的产品质量认证。本公司具有完善的残靶回收技术,能够制备出满足客户不同需求的高品质大尺寸钌溅射靶材。

                         规格

成分(wt.%)

Ru

形状

圆形

尺寸(mm

φ165 x 5(圆形)

纯度

4N

                                       *其他成分及尺寸根据客户要求定制。

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