镍铂靶(NiPt)/ 镍铬靶(NiCr) / 镍钒靶(NiV)

镍铂溅射靶材(NiPt

高纯镍及镍合金靶材是制造半导体芯片硅化物过程的关键材料,在半导体二极管、金属氧化物场效应管以及集成电路等具有广泛的应用,应用范围涉及通信、汽车、计算机及便携式电器、工业、航天、家电、办公用品等各种领域。

本公司近年来致力于电子半导体相关靶材的研究开发工作,以市场为导向,以客户需求为使命,对靶材加工过程中的关键过程参数、中间产品及最终产品进行严格的质量控制,逐渐形成了一套标准化的生产作业流程。所制备的镍铂溅射靶材(NiPt)具有纯度高、组织均匀、晶粒细小的特点,经客户试用,具有优异的产品性能和良品率。

                           规格:

成分(wt.%)

Ni5PtNi15Pt,Ni30Pt,Ni60Pt

形状

圆形、方形

尺寸(mm

444 x 127 x 4(方形)

φ100-400 x 5(圆形)

纯度

4N4N5

                          *其他成分及尺寸根据客户要求定制。

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